xrf(x 射线荧光)是一种用于测定材料中元素组成的无损分析技术。xrf 技术通过分析可样品由一级 x 射线源激发而散射出的荧光(或二级)x 射线,来确定样品的化学属性。样品中的每一种元素受激发后都会产生一组特定的荧光 x 射线(“指纹”),因此对于材料化学成分定量及定性分析而言,xrf 光谱法是一种非常好的技术。
x 射线荧光过程:
用受控 x 射线管发出的高能 x 射线照射固体或液体样品。
当样品中的某个原子被能量充足(大于原子的 k 或 l 壳层结合能)的 x 射线撞击时,就会从原子的一个内轨道壳层中逐出一个电子。
原子恢复稳定性,并使用来自原子更高能量轨道壳层之一的电子填补内轨道壳层的空缺。
电子通过释放荧光 x 射线降至较低能量状态。该 x 射线的能量等于电子两个量子态之间的特定能量差。这种能量的测量是 xrf 分析的基础。
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