HMDS(六甲基二硅氮烷)表面处理
hmds(六甲基二硅氮烷)表面处理的应用
六甲基二硅氮烷(hmds)表面处理的工艺是匀胶前衬底“增附处理。在光刻中，通常会用到一些例如蓝宝石、氮化镓、砷化镓甚至是贵金属薄膜等衬底，这类衬底与光刻胶的粘附性往往不怎么理想，这会导致后续的光刻显影环节出现“裂纹甚至是漂胶等问题。因此必须通过工艺手段改善，这个步骤我们叫做增附处理或者叫做助黏，也称为hmds预处理。
hmds(六甲基二硅氮烷)表面处理设备
js-hmds90 是将“去水烘烤“和hmds处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在箱内先经过100℃-200℃的去水烘烤，再进行hmds处理，不需要从箱内传出，而接触到空气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有更好的处理效果。
hmds(六甲基二硅氮烷)表面处理设备将hmds气相沉积至半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经系统加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。
hmds药液低液位报警：
自动吸取hmds：
可自动添加hmds：
hmds药液泄漏报警：
hmds气体管路加热系统：
参数记录功能：
温度与程序互锁功能：
容积大小：350*350*350/450*450*450（mm）可定制
温度范围：rt+10-250℃
真空度：≤133pa（1torr）
控制系统;人机界面+plc
搁板层数:2层
无氧烘箱，真空无氧烘箱，无尘烘箱，hmds烘箱，硅烷蒸镀机，无尘无氧烘箱，氮气烘箱，鼓风真空烘箱，超低温试验箱，快温变试验箱，恒温恒湿试验箱，高低温冲击试验箱等设备，以及非标定制。---上海隽思仪器专业生产/服务！
关键词：贵金属 人机界面 真空烘箱 低温试验箱 试验箱
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