日本shinkuu台式真空蒸镀装置VE-2013介绍
日本shinkuu台式真空蒸镀装置ve-2013介绍
ve-2013是继承了ve-2030（本公司生产）概念的简易真空蒸镀装置。带有内置 tmp 的紧凑型外壳。由于是台式机，所以不占空间。rp 放在地板上。
我们提供具有小型 tmp + rp 排气系统且价格低廉的清洁、高真空气相沉积设备。它是一种全自动控制，消除了复杂的排气操作，只需打开/关闭触摸面板开关。
金、铝、铬、银等可以使用钨篮进行沉积。碳气相沉积使用使用碳 (slc-30)蒸发的夹式气相沉积枪类型。（不能使用φ5mm碳棒。）
碳蒸镀电极
碳蒸镀电极。
它可以在高真空区域进行碳气相沉积，并且可以形成具有优异膜质量和强度的碳膜。
附带的防污罩可限度地减少碳蒸气沉积的散射范围，并减轻清洁负担。
碳（slc-30）用作碳气相沉积源。
金属蒸镀电极
φ0.5mm 这是钨篮的金属蒸镀电极。
可以轻松轻松地沉积金、铝、铬等。附带的防污罩可限度地减少气相沉积范围并减轻清洁负担。
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