超纯水、高纯水、纯水有何区别?

超纯水又称up水,是指电阻率达到18 mω*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,更没有细菌、病毒、含氯二噁英等有机物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素,也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。
关于超纯水的规定,我们国家在 2017 年 5 月份推出名为《仪器分析用高纯水规格及试验方法》的标准里规定了超纯水的电阻率一般大于18mωcm,有机物含量toc小于50ppb。这说明超纯水中的离子含量非常低,除了h+和oh-外,其它离子几乎可以忽略。而我们平常饮用的水中或多或少都含有些矿物成分,电阻率数值一般在1mωcm左右。
超纯水由于其中的污染物质含量非常低,单纯的饮用对人体并没有危害,但水中的某些成分能够提升饮用的口感。饮用超纯水的口感会稍差一些。另外,超纯水是为了研制超纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其他适当的超临界精细技术生产出来的水,不宜饮用。
超纯水、高纯水、纯水有何区别?
纯水设备超纯水、高纯水、纯水都有一个“纯”字,名字差不多,可指标和用法却不尽相同。辨别水处理行业中纯水,高纯水和超纯水的区别,主要就是看它们各自的电导率和含盐量。小编马上就为大家答疑解惑,小伙伴们可千万别搞混了哦......
纯水是指水中的强电解质和弱电解质(如等)去除或降低到一定程序的水。其电导率一般为:1.0-0.1μs/cm,电阻率1.0-10.0×106ω·cm。含盐量10×106ω·cm为1。含盐量<0.1mg/l。理想纯水(理论上)电导率为0.05μs/cm,电阻率(25℃)为18.3×106ω·cm。常用于集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。
超纯水可以在以下领域使用:
(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。
(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。
(4)高压变电器的清洗等。
超纯水设备制备超纯水的原理和步骤
现在制备超纯水的方法是将各种纯化水的新技术科学地结合起来,不仅能生产超纯水,而且变得非常容易。目前市售的超纯水设备就是一个成功的例子。自来水进去超纯水出来,非常方便。而且使用寿命也越来越长。超纯水设备制备超纯水的原理和步骤大体如下:
1、原水:可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。
2、机械过滤:通过砂芯滤板和纤维柱滤除机械杂质,如铁锈和其他悬浮物等。
3、活性炭过滤:活性炭是广谱吸附剂,可吸附气体成分,如水中的余氯等;吸附细菌和某些过渡金属等。氯气能损害反渗透膜,因此应力求除尽。
4、反渗透膜过滤:可滤除95%以上的电解质和大分子化合物,包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除,使离子交换柱的使用寿命大大延长。
5、紫外线消解:借助于短波(180nm-254nm)紫外线照射分解水中的不易被活性炭吸附的有机化合物,如甲醇、乙醇等,使其转变成co2和水,以降低toc的指标。
6、离子交换单元:已知混合离子交换床是除去水中离子的决定性手段。借助于多级混床获得超纯水也并不困难。但水的toc指标主要来自树脂床。因此,高质量的离子交换树脂就成为成败的关键。所谓高质量的树脂,就是化学稳定性特别好,不分解,不含低聚物、单体和添加剂等的树脂。所谓核工业级树脂大概就属于这一类树脂。对树脂的要求是质量越高越好。可惜国内很少有人在这方面下工夫。满足于生产大路货。
7、0.2μm滤膜过滤,以除去水中的颗粒物到每毫升1个(小于0.2μm的)经过上述各步骤处理后生产出来的水就是超纯水了。应能满足各种仪器分析,高纯分析,衡量。
在电子行业中,超纯水的应用十分广泛。生产半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件等电子工业都用超纯水设备。水质可达可达18.3兆欧,符合电子行业生产所需超纯水水质要求。苏州皙全皙全纯水设备公司可根据客户要求制作各种流量的纯水设备,实验室纯水设备,gmp医用纯化水设备,半导体超纯水设备。
关键词:纯水设备 蓄电池 芯片 显示器 电容器

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