含氰废水处理的PH和ORP控制与监测

介绍有三种典型的电镀处理会产生废水：stripping, 清洗（cleaning）, 和电镀( plating)。stripping槽中包含酸性溶液，包括硫酸，硝酸，盐酸或氢氟酸等。这些酸用来去除金属表面的污垢和氧化沉积层，以确保金属表面在电镀之前有理想的状态。清洗槽中包含有机溶剂（用来去除油或油脂）和加湿试剂。电镀槽包含被电镀的金属溶液。这通常是一些金属盐，如三价铬，氧化镉，或铜的。从这三个过程中产生的废水主要包括的污染物是，铬酸盐，酸和碱。这篇论文主要集中讨论废水的ph和orp监测。（北京优恩特科贸有限公司）应用含废水是有害的，必须在排放之前进行处理。处理含废水的处理过程通常为两步。**步是使用氧化试剂，如氯或者次氯酸钠在碱性情况下（高ph值），将氧化为氰酸盐（氰酸盐的毒性要比毒性小的多）。 **步，是添加更多的氯或者次氯酸钠，但是和**步相比，是在低ph值情况下，将氰酸盐氧化为二氧化碳或和氮气。 **步下列化学方程表示了变为氰酸盐的过程： nacn + 2naoh + cl2 <---> nacno + h20 首先，通过添加强碱将ph 调节并控制到10或更高。注意: ph10或更高，必须保持，因为如果废水接触到酸，会释放出危险的(cnci) 或(hcn)气体。提高ph值以后, 通过增加氧化试剂，其orp值(氧化还原电位)增加到大约(+) 250 mv。当所有的被氧化为氰酸盐时，orp监测可以看到突变(典型是50 mv) 。这些反应发生于15 到30 分钟。注意:优良orp值和ph改变是不同的过程。因此ph 控制就是必要的。同时实际的orp值设定点必须根据实际的情况确定。 **步下列化学方程式表示了氰酸盐的氧化过程： 2nacn0 + 4naoh + 3cl2 <---> 6nacl + 2co2 + n2 + 2h20 **步的反应过程发生在较低的ph (8.5 to 9 ph)情况下。这种较低的ph 主要是由于在**步碱的消耗，代替naoh，添加酸并不是典型的减少ph的方法。同时，更多的氧化物被添加，直到orp值增加到大约(+) 300 mv。记住，此值依赖于这个过程的特性，并非固定。仪表对于典型的两步法处理系统，在下图中予以描述：(figure1) 建议准备两个ph 和两个orp控制系统。推荐使用平表面ph 和orp电极。可以减少清洗频率和节省更多的时间。所有的控制器必须有继电器控制输出，并且设定点可以调整和设定。推荐控制器有报警输出，以便警告操作者，当超出正常范围时。选择变送器连接ph和orp电极，通过plc控制也是一个好的选择。对于分解处理系统，强烈推荐orp传感器有金（相对于铂金）电极表面。两个重要的原因是：金电极会产生更大的毫伏电位差；并且金电极不会被废水中镉和锌毒害 • 四ph/orp 控制器(你的选择) • 两个ph 传感器(model 970211) • 两个orp 传感器金电极(model 970466) 结论由于每一个废水都是的，推荐分析这个影响，以确保高效的废水分解。在废水中有其它有机物和金属，可能会产生副反应，可能需要更多的氧化试剂，更长的反应时间。废水监测产品浸入式ph电极（submersible ph sensors）型号s650cd:适用于含氰废水的ph监测，美国神瑞（sensorex）出品（/sensor17_category_11285_1.html）浸入式orp电极（submersibl orp sensors）型号s650cd-orp:适用于含氰废水的orp监测，美国神瑞（sensorex）出品：（/）控制器mu2000：（/sensor17_product_2599341.html）德国迈格出品

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