HMDS处理系统的药液泄漏处理方法
hmds真空烘箱，hmds处理系统中hmds泄漏处理方法
1.在污染区尚未*清理干净前，限制人员接近该区。
2.确定清理工作是由受过训练的人员负责。
3.穿戴适当的个人防护装备.
4.对该区域进行通风换气。
环境注意事项：抽气通风，移走撤离关闭所有可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置，若大量泄漏时先将泄漏区围堵避免扩散。
hmds清理方法：
少量泄漏时：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。
大量泄漏时：将泄漏区域围堵，小心地道引将泄漏物抽取回收集桶。
超泓hmds真空烘箱，hmds处理系统主要用途：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将hmds涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
hmds真空烘箱，hmds处理系统技术参数：
电源电压：ac 220v±10%/50hz±2%
输入功率：2200w
温度范围：rt+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±1℃
达到真空度：133pa（1torr）
工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）
超泓hmds真空烘箱，上海超泓hmds处理系统特点：
1、预处理性能更好
2、处理更加均匀
3、效率高
4、更加节省药液
5、更加环保和安全
6、高安全保护性能
a.低液报警装置
b.可自动吸取hmds功能，
c.可自动添加hmds功能，
d.hmds药液泄漏报警功能，
hmds安全处置与储存方法：
处置：hmds易产生静电，搬运时将所有设备与容器适当接地，并须固定牢固，避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。
存储：置于阴凉、干燥、通风处、紧盖容器，远离各种可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置，避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。
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2.确定清理工作是由受过训练的人员负责。
3.穿戴适当的个人防护装备.
4.对该区域进行通风换气。
环境注意事项：抽气通风，移走撤离关闭所有可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置，若大量泄漏时先将泄漏区围堵避免扩散。
hmds清理方法：
少量泄漏时：以惰性吸收/吸附材料吸取泄漏物。
大量泄漏时：将泄漏区域围堵，小心地道引将泄漏物抽取回收集桶。
超泓hmds真空烘箱，hmds处理系统主要用途：
在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂hmds(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将hmds涂到半导体制造中硅片、砷化镓、铌酸锂、玻璃、蓝宝石、晶圆等材料表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。
hmds真空烘箱，hmds处理系统技术参数：
电源电压：ac 220v±10%/50hz±2%
输入功率：2200w
温度范围：rt+10℃-250℃
温度分辨率：0.1℃
温度波动度：±1℃
达到真空度：133pa（1torr）
工作室尺寸（mm）：450*450*450,550*550*350（可定做）
超泓hmds真空烘箱，上海超泓hmds处理系统特点：
1、预处理性能更好
2、处理更加均匀
3、效率高
4、更加节省药液
5、更加环保和安全
6、高安全保护性能
a.低液报警装置
b.可自动吸取hmds功能，
c.可自动添加hmds功能，
d.hmds药液泄漏报警功能，
hmds安全处置与储存方法：
处置：hmds易产生静电，搬运时将所有设备与容器适当接地，并须固定牢固，避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。
存储：置于阴凉、干燥、通风处、紧盖容器，远离各种可能之热源、火星、火花与火焰等之引火源与点火装置，避免吸入蒸气及接触眼睛与皮肤。
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